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日本KITZ閥門(mén)產(chǎn)品主要應用于哪些行業(yè)?有哪些特殊要求?

發(fā)布時(shí)間: 2025-04-30  點(diǎn)擊次數: 229次

KITZ 閥門(mén)產(chǎn)品應用廣泛,主要包括以下行業(yè):

化工行業(yè):化工生產(chǎn)中常涉及各種腐蝕性介質(zhì)和復雜的工藝流程。KITZ 的隔膜閥、球閥等產(chǎn)品,憑借其耐腐蝕性強的特點(diǎn),能抵御強酸、強堿等化學(xué)品的侵蝕,確保介質(zhì)輸送的安全和穩定,同時(shí)滿(mǎn)足精確控制流量的需求,保障生產(chǎn)過(guò)程的準確性和高效性。

石油和天然氣行業(yè):在石油開(kāi)采、煉制以及天然氣輸送過(guò)程中,需要承受高壓、高溫的閥門(mén)產(chǎn)品。KITZ 的閘閥、球閥等可用于截斷或接通石油、天然氣等介質(zhì)的流動(dòng),其良好的密封性能能防止介質(zhì)泄漏,確保管道系統的安全運行,同時(shí)適應惡劣的工作環(huán)境和復雜的介質(zhì)特性。

電力行業(yè):無(wú)論是火力發(fā)電、水力發(fā)電還是核能發(fā)電,都離不開(kāi) KITZ 閥門(mén)。例如,在火力發(fā)電廠(chǎng)中,閘閥、截止閥等可用于蒸汽、水等介質(zhì)的輸送管道,控制介質(zhì)的流量和流向;在核電站中,KITZ 的一些高可靠性、高安全性閥門(mén)產(chǎn)品可應用于核島、常規島等關(guān)鍵部位,確保核電站的安全穩定運行。

半導體行業(yè):半導體制造過(guò)程對介質(zhì)的純度和流量控制。KITZ 的高品質(zhì)隔膜閥等產(chǎn)品,能夠精確控制光刻膠、蝕刻劑等腐蝕性化學(xué)品的輸送,避免介質(zhì)污染,確保晶圓加工的精度和質(zhì)量,滿(mǎn)足半導體生產(chǎn)的高潔凈度和高精度要求。

KITZ 的隔膜閥、球閥等產(chǎn)品,具有良好的清潔性和密封性能,結構緊湊且操作簡(jiǎn)便,能夠滿(mǎn)足嚴格的衛生要求,確保產(chǎn)品質(zhì)量安全,防止介質(zhì)受到污染。

建筑行業(yè):在樓宇建筑中,KITZ 閥門(mén)應用于給排水系統、暖通空調系統、消防系統等。例如,閘閥、蝶閥可用于控制水的流動(dòng),調節水量;在空調系統中,球閥等可用于控制制冷劑或熱水的流量,實(shí)現溫度調節;在消防系統中,專(zhuān)門(mén)的消防閥門(mén)產(chǎn)品能夠在緊急情況下快速響應,確保消防用水的及時(shí)供應。

水處理行業(yè):包括自來(lái)水廠(chǎng)、污水處理廠(chǎng)等。KITZ 的蝶閥、閘閥、止回閥等產(chǎn)品可用于控制水流的方向、流量和壓力,在水的凈化、輸送和排放過(guò)程中發(fā)揮重要作用,有助于提高水處理效率,保障水質(zhì)安全。

數據中心行業(yè):用于數據中心的冷卻水系統、火災防護系統和供電系統等基礎設施建設。例如,在冷卻水系統中,閥門(mén)可控制水流的循環(huán)和調節,確保數據中心設備的冷卻效果;在火災防護系統中,閥門(mén)能夠在火災發(fā)生時(shí)迅速響應,實(shí)現消防水的準確輸送和分配。

半導體行業(yè)對KITZ閥門(mén)產(chǎn)品的清潔性和密封性能有哪些特殊要求?

清潔性要求

材質(zhì)純凈度高:閥門(mén)通常需使用 316L 不銹鋼、PFA、PVDF 等超高純度材料,從源頭上避免金屬離子等雜質(zhì)析出,防止對半導體制造過(guò)程中的高純度氣體、 ultrapure water(超純水)、光刻膠等造成污染。

表面處理精細:閥門(mén)內部流道和與介質(zhì)接觸的表面需進(jìn)行高精度拋光處理,如通過(guò)電解拋光等工藝,使表面粗糙度達到極低水平,一般要求 EP(電解拋光)表面粗糙度 Rz 0.7μm 以下,以減少顆粒吸附和滯留,避免顆粒脫落進(jìn)入工藝介質(zhì)3。

無(wú)顆粒釋放:在閥門(mén)的設計和制造過(guò)程中,要確保沒(méi)有微小顆?;蛩樾籍a(chǎn)生,即使在閥門(mén)頻繁開(kāi)啟和關(guān)閉的情況下,也能抑制顆粒的生成,保證穩定供應潔凈的工藝介質(zhì)。

易于清潔和維護:閥門(mén)的結構應設計得便于拆卸、清洗和組裝,以方便定期進(jìn)行清潔維護操作,確保內部無(wú)雜質(zhì)殘留,且在清潔過(guò)程中不會(huì )對閥門(mén)本身造成損傷,影響其性能。

密封性能要求

超高的密封精度:無(wú)論是內部密封(防止介質(zhì)在閥門(mén)內部泄漏)還是外部密封(防止介質(zhì)泄漏到外界環(huán)境),都要求達到密封標準,通常要求內部和外部泄漏量檢測達到 1.0x10?1? Pa 甚至更低級別,以避免工藝介質(zhì)的泄漏導致的污染、浪費以及對生產(chǎn)環(huán)境和設備的損害3。

能承受工況:半導體制造過(guò)程中可能涉及到高溫、高壓、高真空以及腐蝕性氣體或液體等工況,閥門(mén)的密封結構和材料必須能夠在這些條件下保持穩定的密封性能,如在高真空環(huán)境下(如 10?? mbar 甚至更高真空度),閥門(mén)的密封件不會(huì )因壓力差而變形或損壞,確保真空系統的密封性5。

耐腐蝕密封材料:由于半導體工藝中常使用強酸、強堿、強氧化劑等腐蝕性化學(xué)物質(zhì),密封材料需具備優(yōu)異的耐腐蝕性,如采用 PCTFE、PI、PFA 等材質(zhì)的密封圈,以抵抗化學(xué)介質(zhì)的侵蝕,防止密封性能下降3。

快速響應和可靠密封:在半導體生產(chǎn)設備中,閥門(mén)需要頻繁地快速開(kāi)啟和關(guān)閉,以精確控制工藝介質(zhì)的流量和流向,這就要求閥門(mén)的密封機構能夠快速響應并在每次動(dòng)作后都能實(shí)現可靠的密封,保證工藝的穩定性和重復性。

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